真空鍍膜機的殘余氣體分析方法有哪些

真空鍍膜機的殘余氣體分析主要是利用質譜計的模擬掃描模式，在設備的工作質量范圍內，通過適當的參數選擇，再進行真空設備的全譜掃描，最后將真空設備中的殘余氣體的全譜圖記錄下來。通常情況下，掃描高真空設備全譜選擇1u-100u的質量范圍就夠了，對于一些小型質譜計可以選擇1u-50u的質量范圍。

可用兩種方法在質譜圖上確定譜峰質量數：計算機控制的四極質譜計給出的譜圖是最簡單的一種方法了，可直接在質量數坐標軸讀出對應峰的質量數。而一些小型四極質譜計沒有計算機控制，峰高（離子流）可在記錄儀的縱軸讀出，走紙的長度可在橫軸讀出。在記錄儀的走紙速度一定的情況下，可將橫軸看作時間軸。

四極質譜計的掃描模式為線性掃描，因此，可在記錄儀的橫軸上，按峰間紙的距離將對應峰的質量數計算出來。

在真空設備中可通過離子判別表作簡單的殘余氣體分析，根據峰的質量數，能直接對該峰對應的氣體種類進行判定。再通過真空設備中一些常見的殘余氣體的圖形碎片分析設備的氣體組分。對于真空設備殘余氣體譜的識別常用到的規律有：

1、真空設備常見的清洗劑殘留物。如丙酮質量數為42、酒精的基準峰質量數為31；

2、對于無油的超高真空設備，甲烷的質量數為16，其成分的出現是因為C、H受到了質譜計熱燈絲的表面作用而形成；

3、真空設備烘烤不徹底或者是未經烘烤處理的，真空系統的氣體主要成分為水，質譜峰的質量數為17、18和1；

4、設備中的N?和CO（質量數均為28）的區別可根據碎片圖形來確定，氮氣碎片對應質量數為14的峰，而質量數為12的峰為一氧化碳的碎片；

5、存在漏氣情況的真空設備，可以觀察到氧峰非常明顯，氧峰質量數為32；

6、沒受到油蒸氣（碳氫化合物）污染的真空設備的殘余氣體成分的質量數通常不超過44。無油真空設備的氣體為主要成分是惰性氣體，如氫氣（質譜峰為2）、氬氣（質譜峰為40）和二氧化碳（質譜峰為44）。

7、受到油蒸氣（碳氫化合物）污染的真空設備，碳氫化合物一組峰會成組地出現，且存在如質量數39、41、43一組峰和55、57一組峰等明顯特征峰。

因為一些小型四極質譜計沒有計算機控制，所以采用記錄儀記錄它的模擬峰，所以要通過對殘余氣體質譜峰的基本了解，綜合四極質譜計線性的標度特點，將每個峰的質量數確定下來，再根據質譜峰的質量對真空鍍膜機的真空系統氣體主要成分、是否漏氣、殘留清洗物等進行分析。